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机械剥离氧化硅/硅基底二硫化钨
货号: CAS号: 7440-33-7 编号: XFG17

DETAILED 产品详情
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101044 CAS号:7440-33-7
编号:XFG17
包装:1 盒
参数:基底尺寸: 10 mmx10 mm
库存:0
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保质期:6月 常温干燥避光
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产品名称

中文名称: 机械剥离氧化硅/硅基底二硫化钨

英文名称:Mechanical exfoliation WS2 on SiO2/Si

 

性质

形态:薄膜

参数

基底:二氧化硅/硅

氧化层:300nm

基底尺寸:10 mmx10 mm

WS2面积:>10 μm2

 

应用

先丰纳米最新推出机械剥离制备的二硫化钨,该类材料具有缺陷少,优异的光学性质,可以研究层数和荧光效应,此外,由于保持了原有晶格结构,所以该类材料是制备器件的理想材料。

 

其他信息

详情请发邮件至:sale@xfnano.com

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